* A' C; S( H! ?9 k
索尼公司研发了新一代磁带,存储容量可达到185TB,是传统磁带的74倍,蓝光碟的3700倍 ' \7 P. B( ~4 S1 m: H/ C) q- G * z! H, d" J0 x( B O( U! |4 S9 W7 ^: y j索尼研发的新型磁带采用一个柔软的磁底层,利用一项名为“溅射淀积”的真空薄膜形成技术形成光滑表面。3 a) e0 i. U( `7 \6 ?2 E
( r) G" d# ]% H ! G' O- }; K; t# i. c1 z' r- J# u" E通过让溅射淀积技术实现最优化同时研发光滑柔软的磁层,索尼让保持形状的同时缩小晶体(平均尺寸只有7.7纳米)尺寸成为一种可能。7 l. P2 s$ ]6 r( w7 N& b
6 L, n+ g1 w( I6 F$ u, a( G+ Y据国外媒体6日报道,在CD、云服务以及其他数字存储方式普及的时代,仍使用磁带存储数据似乎是一种过时的做法。然而,世界上仍有很多企业和档案馆采用这种方式。为了满足这些客户的需要,索尼公司研发了新一代磁带,存储容量可达到185TB,是传统磁带的74倍,蓝光碟的3700倍。 : G1 w/ w: s1 ]- _! |2 W( N, w2 g5 w从理论上说,任何人都可以使用这种新式磁带存储数据。不过,索尼公司的这种磁带是专为需要存储海量数据的机构研发的。表面覆盖磁粉的磁带是当前的主流磁带存储方式,最大存储容量可达到2.5TB。一直以来,生产磁带的公司如想提高存储容量通常采用技术手段缩小用于存储数据的磁颗粒的体积。这是一个复杂而昂贵的过程,在很多情况下并不具有成本效益。' Y# r9 D( O, X5 g8 f6 _/ q
索尼研发的新型磁带采用一个柔软的磁底层,利用一项名为“溅射淀积”的真空薄膜形成技术形成光滑表面。溅射淀积技术是指向聚合物膜发射氩离子,形成统一的极细晶体颗粒层,厚度只有5微米。一直以来,采用溅射淀积技术在聚合物膜上形成磁颗粒层时会改变晶体的形状和布局,导致底层粗糙。这些改变限制了所能存储的数据量。 " X$ k: _+ T9 A& P G9 N 通过让溅射淀积技术实现最优化同时研发光滑柔软的磁层,索尼让保持形状的同时缩小晶体尺寸成为一种可能。索尼研制的新磁带存储密度达到每平方英寸(约合6.45平方厘米)148GB,大约是传统涂粉磁带的74倍,富士胶片和IBM公司2010年研制的盒式磁带(存储容量达到35 TB)的5倍。索尼表示他们将进一步研发新一代磁带,为投放市场做好准备,同时想办法提高这项技术的效率,进一步提高存储密度。 8 S% o* p/ T' Q7 {& d. o0 F9 yhttp://tech.sina.com.cn/d/2014-05-07/09469363966.shtml ) X8 g- L+ B/ G$ `0 m) m0 ?7 w